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技術文章

2021
11-5

聚焦離子束電鏡究竟有何不同？
隨著納米科技的發展，納米尺度制造業發展迅速，而納米加工就是納米制造業的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來發展起來的聚焦離子束(FIB)技術利用高強度聚焦離子束對材料進行納米加工，配合聚焦離子束電鏡等高倍數電子顯微鏡實時觀察，成為了納米級分析、制造的主要方法。目前已廣泛應用于半導體集成電路修改、切割和故障分析等。典型的聚焦離子束電鏡包括液態金屬離子源及離子引出極、預聚焦極、聚焦極所用的高壓電源、電對中、消像散電子透鏡、掃描線圈、二次粒子檢測器、可移動的樣品基座...
2021
11-2

一文帶你認識球差電鏡！
球差電鏡，什么是球差？球差是像差的一種，是影響TEM分辨率的主要原因之一。由于像差(球差、像散、彗形像差和色差)的存在，無論是光學透鏡還是電磁透鏡，其透鏡系統都無法做到。光學透鏡中，可通過將凸透鏡和凹透鏡組合使用來減少由凸透鏡邊緣匯聚能力強中心匯聚能力弱所致的所有的光線(電子)無法匯聚到一個焦點的缺點，可對于電磁透鏡，我們沒有凹透鏡，球差便成了影響TEM分辨率最主要也最難解決的問題。球差電鏡，球差是由什么產生的？TEM中包含多個磁透鏡：聚光鏡、物鏡、中間鏡和投影鏡等。球差是由...
2021
10-21

高分辨率掃描電鏡的檢測范圍和基本構造
高分辨率掃描電鏡是電子顯微鏡的一種，其原理是利用二次電子或背散射電子成像，對樣品表面放大一定的倍數進行形貌觀察，同時利用電子激發出樣品表面的特征X射線來對微區的成分進行定性定量分析，是我們材料研究分析中一雙亮麗的“眼睛”。掃描電鏡按照電子槍分類可以分為鎢(W)燈絲、六硼化鑭(LaB6)燈絲、場發射三種，場發射掃描電鏡相比于鎢燈絲、六硼化鑭，具有電子束斑小、高分辨率、穩定性好等特點。高分辨率掃描電鏡的檢測范圍：1.金屬、陶瓷、高分子、礦物、半導體、紙張、化工產品的顯微形貌觀察及...
2021
10-18

PFIB顯微鏡的小知識，快來學習一下！
PFIB顯微鏡是一款雙束電鏡，它可以簡單理解為單束聚焦離子束系統與普通SEM的耦合。單束聚焦離子束系統由離子源、離子光學柱、束描畫系統、信號采集系統和樣品臺五個部分構成。離子源設置在離子束鏡筒的頂端，在其上加較強的電場可以抽取出帶正電荷的離子，這些離子通過靜電透鏡及偏轉裝置的聚焦和偏轉來實現對樣品的可控掃描。樣品加工是通過將加速的離子轟擊樣品使其表面原子發生濺射來實現，同時產生的二次電子和二次離子被相應的探測器收集并用于成像。為了避免離子束受周圍氣體分子的影響，與掃描電鏡類似...
2021
10-14

環掃電鏡常見分類和應用領域
環掃電鏡是一種掃描電子顯微鏡，利用聚焦電子束掃描樣品的表面來產生樣品表面的圖像。最常見的掃描電鏡模式是檢測由電子束激發的原子發射的二次電子。可以檢測的二次電子的數量，取決于樣品測繪學形貌。環掃電鏡常見分類：1.分析掃描電鏡:掃描電鏡配備X射線能譜儀EDS后發展成分析掃描電鏡，不僅比X射線波譜儀WDS分析速度快、靈敏度高、也可進行定性和無標樣定量分析。2.場發射槍掃描電鏡：場發射掃描電鏡得到了很大的發展，不僅提高了常規加速電壓時的分辨本領，還顯著改善了低壓性能。3.低壓掃描電鏡...
2021
10-11

環境掃描電子顯微鏡的工作原理和儀器特點
環境掃描電子顯微鏡工作原理：電子與樣品中的原子相互作用，產生包含關于樣品的表面測繪學形貌和組成的信息的各種信號。電子束通常以光柵掃描圖案掃描，并且光束的位置與檢測到的信號組合以產生圖像。掃描電子顯微鏡由電子槍發射出電子束，在加速電壓的作用下經過磁透鏡系統匯聚，形成電子束，聚焦在樣品表面上，在第二聚光鏡和物鏡之間偏轉線圈的作用下，電子束在樣品上做光柵狀掃描，電子和樣品相互作用產生信號電子。這些信號電子經探測器收集并轉換為光子，再經過電信號放大器加以放大處理，成像在顯示系統上。環...
2021
9-16

透射掃描電子顯微鏡的核心優勢介紹，請收好！
透射掃描電子顯微鏡既有透射電子顯微鏡又有掃描電子顯微鏡的顯微鏡，可以將樣品冷卻到液氮溫度，特別適用于觀測蛋白、生物切片等對溫度敏感的樣品。通過對樣品的冷凍，可以降低電子束對樣品的損傷，減小樣品的形變，從而得到更加真實的樣品形貌。透射掃描電子顯微鏡成像是利用會聚的電子束在樣品上掃描來完成的。在掃描模式下，場發射電子源發射出電子，通過在樣品前磁透鏡以及光闌把電子束會聚成原子尺度的束斑。電子束斑聚焦在試樣表面后，通過線圈控制逐點掃描樣品的一個區域。在每掃描一點的同時，樣品下面的探測...
2021
9-13

場發射電鏡真的那么好用嗎？
場發射電鏡是電子顯微鏡的一種，是以場發射電子發射體發射電子，并以電子束為光源，在真空狀態下通過電磁透鏡控制電子束匯集成很小的束斑照射并透過樣品。由于電子的德布羅意波長非常短，可以獲得樣品原子級微觀形貌。其原理是利用二次電子或背散射電子成像，對樣品表面放大一定的倍數進行形貌觀察，同時利用電子激發出樣品表面的特征X射線來對微區的成分進行定性定量分析。具有電子束斑小、高分辨率、穩定性好等特點。場發射電鏡有以下幾種用途：1.納米材料基本特性分析：對有機、無機、納米材料進行微觀形態研究...
2021
9-10

FIB雙束掃描電鏡是什么？他又有那些用途？
隨著半導體電子器件及集成電路技術的飛速發展，器件及電路結構越來越復雜，這對微電子芯片工藝診斷、失效分析、微納加工的要求也越來越高。FIB雙束掃描電鏡所具備的強大的精細加工和微觀分析功能，使其廣泛應用于微電子設計和制造領域。FIB雙束掃描電鏡是指同時具有聚焦離子束(FocusedIonBeam，FIB)和掃描電子顯微鏡(ScanningElectronMicroscope，SEM)功能的儀器。它可以實現SEM實時觀測FIB微加工過程的功能，把電子束高空間分辨率和離子束精細加工的...
2021
9-8

聚焦離子束顯微鏡原來可以用于這些地方！
聚焦離子束顯微鏡的利用鎵(Ga)金屬作為離子源，再加上負電場(Extractor)牽引端細小的鎵原子，而導出鎵離子束再以電透鏡聚焦，經過一連串可變孔徑光闌，決定離子束的大小，再經過二次聚焦以很小的束斑轟擊樣品表面，利用物理碰撞來進行特定圖案的加工，一般單粒子束的顯微鏡，可以提供材料切割、沉積金屬、蝕刻金屬和選擇性蝕刻氧化層等功能。聚焦離子束顯微鏡主要應用于半導體集成電路修改、切割和故障分析、TEM制樣等。1.精細切割及材料蒸鍍：利用顯微鏡可以在素玻璃上分別進行鎵離子精細切割及...

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